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X線分析装置

 粉末X線回折計 X'Pert-MPD-OES (Philips(PANalytical))

■用途

粉末・薄膜X線回折法、格子定数測定等、加熱・冷却測定

■仕様

ターゲット Cu
出力 45kV-40mA(特殊条件)
ゴニオメーター 2Theta/Omega型(試料水平型ゴニオメーター)
光学系(全体) 1.Bragg-Brentano擬集中光学系---Line Focus
2.平行光学系(薄膜光学系)---Line Focus
入射光学系 1.Bragg-Brentano擬集中光学系用:ソーラースリット(0.04deg)/発散スリット/マスク
受光光学系
ダブルディテクタ
1.集中光学系用:散乱防止スリット/自動受光スリット/ソーラースリット/湾曲結晶モノクロメータ
2.平行光学系用:平行平板コリメータ/平板結晶モノクロメータ
検出器 封入型比例計数管
オプション 中低温チャンバー TTK450(-193 ~ 300℃) Anton Paar社製

■備考


■依頼、セルフ利用

申請名称:MPD
依頼分析申込
セルフユーザー講習申込

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 薄膜材料結晶性解析用X線回折装置 X'Pert-Pro-MRD (Philips(PANalytical))

■用途

薄膜の逆格子空間マッピング(2Theta/Omega-Omega,2Theta/Omega-Chi)
薄膜の超高速逆格子空間マッピング(2Theta-Omega),高分解能ロッキングカーブ,
In-Plane測定,極点図形測定,微細試料の超高速粉末X線回折測定 など

■仕様

ターゲット Cu
出力 45kV-40mA
ゴニオメーター 2Theta/Omega/Chi/Phi/X/Y/Z型
光学系(全体) 1.Bragg-Brentano疑似集中光学系(スリットのみ)---Line Focus
2.平行光学系(モノクロ/ミラー使用)---Line Focus
3.疑似平行(ピンホール)光学系(レンズ使用)---Point Focus
入射光学系 1.X線キャピラリーレンズ(発散角0.3deg)/ミラー(発散角0.03deg)/2結晶Ge(220)ハイブリッドモノクロメータ/オートアッテネータ/プログラマブル発散スリット/ソーラースリット(0.04rad)/発散スリット/マスク
2.ピンホール疑似平行光学系用:Primary Beam Channel/ピンホールコリメーター/
受光光学系 平行平板コリメータ(0.09deg,0.27deg)/グラファイトモノクロメータ/トリプルアクシスダブルディテクタ/ロッキングカーブディテクタ
検出器 封入型比例計数管、1次元検出器 X’Celerator

■備考

低角度測定、薄膜X線法を使用している方で、極点図形測定装置(OEC)では分解能が不足する場合はご相談下さい。

■依頼、セルフ利用

申請名称:MRD
依頼分析申込
セルフユーザー講習申込

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 微小部X線回折装置 D8 DISCOVER μHR (Bruker AXS)

■用途

薄膜と粉末のX線回折測定
1.2次元検出器
 微小領域での相同定、極点図測定、残留応力測定、広域マッピング (2Theta-Psi)、
 試料面マッピング (X,Y)、In-Plane測定、加熱測定
2.シンチレーションカウンタ
 X線反射率測定、In-Plane測定

■仕様

ターゲット Cu
出力 50 kV - 22 mA
ゴニオメーター 2Theta, omega
測定ステージ 多軸ステージ (X, Y, Z, Phi, Psi)
高温試料ステージ (室温 ~900℃) Anton Paar 社製 DHS-900
CCD搭載
レーザービデオ
顕微システム
画像取込み最大試料サイズ:8mm角程度
光学系 入射光学系
 二次元多層膜ミラー (発散角 0.04 deg)
 金属コリメータ (φ.05, 0.1, 0.3, 0.5, 1 mm)
受光光学系
 スリットボックス (シンチレーション使用時)
検出器 二次元検出器 VANTEC-500
(検出器距離 200 mm、300 mm)
シンチレーションカウンタ

■備考

レーザービデオで高さ調整を行います。レーザーを吸収、透過するサンプルは高さ調整が難しいため、測定できないことがあります。
X線照射面積が小さいため、試料平均のデータ収集には向きません。
検出器とレーザービデオの位置関係により検出器中心は108°(2θ最大は 123°)までです。

参考
本装置を使用した測定例 (3/16開催 報告会資料)
(報告提供 材料工学専攻 中村・史研究室)(PDF書類 1.5MB)

■依頼、セルフ利用

申請名称:D8
依頼分析申込
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 卓上X線回折計 Mini Flex 600 (リガク)

■用途

粉末X線回折法、格子定数測定等

■仕様

ターゲット Cu
出力 40kV-15mA
ゴニオメーター 2θ/θ型(半径:150mm)
光学系(全体) 集中光学系---Line Focus
入射光学系 ソーラースリット(2.5deg)/発散スリット/
マスク(高さ制限スリット)
受光光学系 ソーラースリット(0.5deg,2.5deg)/散乱スリット/受光スリット
検出器 高速1次元検出器D/teX Ultra2
オプション 可変ナイフエッジ、回転試料台、蛍光除去モード、大型試料用ステージ(膜も可)

■備考


■依頼、セルフ利用

申請名称:Mini Flex
依頼分析申込
セルフユーザー講習申込

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 エネルギー分散型蛍光X線分析装置 NEX DE (リガク)

■用途

X線分析(EDX)、膜厚解析(薄膜)

■仕様

X線管 最大出力12W、最大管電圧60kV
ターゲット:Ag
検出器 半導体検出器:SDD(シリコンドリフトディテクタ)
測定径 コリメータ自動交換機構
(1mm、3mm、10mm)
試料観察機構 装置内蔵カメラ
1次X線フィルタ 自動交換:6種類 + オープン
検出元素 大気:Al ~ U
ヘリウム:Na ~ U
分解能 140eV以下
試料室寸法 305mm(W) × 305mm(D) × 105mm(H)
試料台 15試料交換機構(試料径32mm用)

■備考


■依頼、セルフ利用

申請名称:NEX DE
依頼分析申込
セルフユーザー講習申込

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 解析ソフト

■用途

■粉末X線解析ソフト(PDXL, HIGHSCORE)
研究室での測定データや、KEK、SPring-8での測定データの解析にご利用ください。
(2時間 1,000円)

利用希望の方は当部門発行の予算シールをご用意いただき、利用希望日を
xray@cama(.titech.ac.jp)※()は外してお送りください」までご連絡ください。
また、初めてご利用される方には簡単な説明をいたします。

■備考


■依頼、セルフ利用

セルフユーザー利用のみ
※依頼分析は受け付けておりません

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